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東佑達奈米系統 TOYO NANO
螺桿側驅精密旋轉平台

LR 系列

具備高重覆精度、超低工作檯面、超大中空直徑和高可靠性與穩定性等特點,成為高精度定位應用的理想選擇。

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● LR-300螺桿側驅精密旋轉平台,具備高重覆精度、超低工作檯面、超大中空直徑和高可靠性與穩定性等特點,成為高精度定位應用的理想選擇。

● 重複精度可達±10arcsec,適用於半導體製造和光學對準系統。

● 平台的高度僅有55mm,節省了垂直空間,便於集成到緊湊的設備中。

● 320mm的超大中空直徑允許更多線纜和管道的通過,增加了設備的靈活性。

● 模組化設計使安裝簡便,控制系統提供多種模式,操作舒適且安全,為使用者提供了一個高效、精確的旋轉平台。

LR200

螺桿側驅精密旋轉平台 LR200平面尺寸圖

 

LR300

 螺桿側驅精密旋轉平台 LR300平面尺寸圖

螺桿側驅精密旋轉平台 LR系列 產品規格表

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